Itera Selenggarakan Pelatihan Duta Paten 2025 untuk Cetak Inovator Muda di Tingkat Prodi

Itera Selenggarakan Pelatihan Duta Paten 2025 untuk Cetak Inovator Muda di Tingkat Prodi

Print Friendly, PDF & Email

ITERA NEWS – Institut Teknologi Sumatera (Itera) melalui Pusat Kelola Karya Intelektual (PKKI) Lembaga Penjamin Mutu dan Pengembangan Pembelajaran (LPMPP) kembali memperkuat komitmen sebagai Kampus Inovasi dengan menyelenggarakan Pelatihan Duta Paten Itera 2025 pada 8–9 Desember 2025 di Aula C Itera.

Kepala LPMPP Itera, Dr. Handoyo, M.T., membuka kegiatan dengan menekankan pentingnya penguatan budaya kekayaan intelektual di lingkungan kampus. “Kami berharap Pelatihan Duta Paten Itera 2025 dapat melahirkan perwakilan inventor di setiap prodi yang memahami kaidah penulisan paten dengan baik. Dengan demikian, invensi yang dihasilkan tidak hanya memberikan dampak dan manfaat nyata, tetapi juga memiliki perlindungan hukum yang kuat sehingga mampu bersaing di tingkat nasional maupun internasional.”

Kegiatan pelatihan yang mengusung tema “Wujudkan Inovasi Berdampak” ini menjadi langkah strategis Itera dalam mencetak inovator muda berdaya saing dan memperluas peran Duta Paten di tingkat program studi.

Kami berharap Pelatihan Duta Paten Itera 2025 dapat melahirkan perwakilan inventor di setiap prodi yang memahami kaidah penulisan paten dengan baik

Pelatihan menghadirkan tiga Pemeriksa Paten Madya dari Direktorat Jenderal Kekayaan Intelektual (DJKI), yakni M. Adril Husni, S.T., M.M. (bidang elektro, IoT, dan teknologi sejenis), Rifto A.I., S.T., M.H. (mekanik dan rekayasa terkait), serta Stefano T.A., S.T.P., M.H. (MIPA, pangan, dan teknologi terkait). Ketiga narasumber memberikan materi komprehensif mengenai teknik penyusunan dokumen paten, strategi perumusan klaim, hingga pemahaman tahapan pemeriksaan paten dari perspektif praktisi profesional.

Selain pemaparan materi, peserta juga mendapatkan kesempatan konsultasi personal sesuai bidang keilmuan masing-masing. Sesi ini dirancang untuk memberikan pemahaman lebih aplikatif terkait potensi invensi, standar klaim, serta aspek kebaruan yang menentukan keberhasilan pendaftaran paten. (Rilis/Humas)